Mængden af luft ud af vakuumbelægningsmaskinen er for stor, eller der er luftlækage i vakuumkammeret
Læg en besked
Mængden af luft ud af vakuumbelægningsmaskinen er for stor, eller der er luftlækage i vakuumkammeret
1. Der er luftlækage i vakuumkammeret: Vi ved alle, at den grundlæggende betingelse for multi-arc ion coating maskinen er, at emnet kan coates i vakuumtilstand. Hvis der er luftlækage i vakuumkammeret, registreres det ikke. position, kan vakuumpletteringen ikke pumpes i lang tid;
2. Selvom der ikke er nogen luftlækage i vakuumkammeret, er det på grund af den store mængde af afgasning af plastprodukter vanskeligt at støvsuge og sputter-kontrollerede sputter-coatere, især højvakuum. På grund af udgasning af plastprodukter er belægningsgassen i vakuumkammeret desuden uren, og der er tilstedeværelsen af diverse gasser, som får belægningsproduktets farve til at være mørk, gul, sort osv.
Vakuumbelægningsmaskine bruger modstandsopvarmningsmetode
Vakuumbelægningsmaskinen bruger modstandsopvarmningsmetoden i et vakuumkammer til at smelte og fordampe metaltråden, der er tæt knyttet til modstandstråden, og de fordampede metalmolekyler aflejres på substratet for at opnå et glat reflektionsfilmlag til at dekorere og forskønne artiklens overflade. målet om. Det er et ideelt udstyr til at opnå billig og højkvalitets plastoverfladedekoration. Plast med enhver baggrundsfarve kan belægges til metalfilm, farverige film, imiterede guldfilm osv. efter at have passeret gennem lampebelægningsmaskinen. Udbredt i plast (ABS, APS, PU, PS, PP, PC, PVC), nylon, keramik, harpiks, glas og andre materialer, legetøj, tilbehør, kunsthåndværk, mobiltelefonskaller, elektroniske produkter, belysningstilbehør, kosmetisk emballage og andet industrier.
Medium Frequency AC Magnetron Sputtering Technology til Twin Target Sputtering af Vacuum Coater
I 1980'erne, selv om han kun optrådte i mere end ti år, skilte den sig ud fra laboratoriet og trådte virkelig ind på området for industriel masseproduktion. Ydermere, med den videre udvikling af videnskab og teknologi, er ionstråleforstærket sputtering blevet introduceret inden for sputtering coating i de seneste år, ved at bruge en bredstrålende højstrøms ionkilde kombineret med magnetisk feltmodulation og kombineret med konventionel diode sputtering for at danne en ny sputtertilstand. Desuden indføres mellemfrekvensen AC-effekt i målkilden for magnetronforstøvning. Denne mellemfrekvente AC-magnetronforstøvningsteknologi, kaldet twin target sputtering, eliminerer ikke kun anodens forsvindingseffekt. Desuden er problemet med forgiftning af katoden også løst, hvilket i høj grad forbedrer stabiliteten af magnetronforstøvning. Det giver et solidt grundlag for den industrialiserede storskalaproduktion af sammensatte tyndfilm. I de senere år har genoplivningen og udviklingen af hurtig belægning været aktiv inden for det tekniske område af vakuumbelægning som en varm ny teknologi til fremstilling af tyndfilm.
www.superbheater.com
