Teknisk anvendelse af ionbelægning til vakuumgalvanisering af elektrisk varmerør

Teknisk anvendelse af ionbelægning til vakuumgalvanisering af elektrisk varmerør

Ionplettering kan ikke kun belægge enkelte metaller og legeringer, men også opnå metal- og ikke-metalforbindelsesbelægninger, der ikke kan opnås ved galvanisering og strømløs plettering. Denne belægnings hårdhed og slidstyrke er ekstrem høj. Hvis det bruges i et værktøj, kan det i høj grad forbedre skærehastigheden og levetiden for værktøjet, samt forbedre skæreprocessen og forbedre bearbejdningsnøjagtigheden.

Ionbelægning er meget udbredt i forskellige industrier til at afsætte belægninger med forskellige funktioner, og mange er endda gået ind i industriel skala. I begyndelsen af ​​perioden løste den ionbelagte guldfilm eller sølvfilm smøreproblemet med kuglelejet og spillede derefter gradvist rollen som anti-korrosionsfilmen og den superhårde film. Den ionpletterende TiN-film er gyldengul og har været brugt i urdele, papirvarer, service osv. Den har ikke kun et smukt udseende, men er også modstandsdygtig over for korrosion og varme.

Ionbelægningsprototypen er praktisk taget blevet anvendt i belægningsfelterne for billamper, automobilhjul, elektroniske informationsprodukter osv., og effekten er indlysende.

Katodisk lysbue ion plettering af vakuum galvanisering elektrisk varmerør

Blandt mange ionpletteringsteknologier er katodisk lysbue-ionplettering mesteren, og den har gradvist udviklet sig til hovedkraften inden for hårde film. For det første er lysbuenålen med positivt potentiale tæt på målet med negativt potentiale. Når afstanden mellem katoden og anoden er lille nok, vil gassen mellem de to poler blive nedbrudt og danne en Hu-strøm. På dette tidspunkt vil en del af nitrogengassen blive adskilt. , der danner nitrogenkationer såvel som elektroner. Tiltrukket af den elektriske feltkraft vil kationerne af nitrogen flyve nær katodemålet, og elektronerne vil flyve til lysbuens tændingsnål. Når elektronerne når anoden, vil partiklerne ikke nå katodemålets overflade, men vil være tættere på måloverfladen. Stedet er beriget for at danne et positivt ionakkumuleringslag. Så vil elektronerne flyve til det positive ionakkumuleringslag for at danne en strøm, akkumuleringslaget og måloverfladen vil blive tændt, en bue vil blive genereret nær måloverfladen, målet vil blive fordampet, og positive ioner vil blive tiltrukket på samme tid, hvilket resulterer i sputtering.

www.superbheater.com