Forbedring af ensartethed af optisk film ved magnetronforstøvning af vakuum galvanisering elektrisk varmerør
Læg en besked
Forbedring af ensartethed af optisk film ved magnetronforstøvning af vakuum galvanisering elektrisk varmerør
Med udviklingen af optisk kommunikation bliver ydeevnekravene til optiske film højere og højere, hvilket stiller højere krav til ensartetheden af belægningsmaskinen. Ved at designe et nyt armatur i denne artikel optimeres ensartetheden af belægningsmaskinen fra 1 procent til 0,1 procent.
Med den hurtige udvikling af optisk kommunikation og andre industrier er der opstået forskellige optiske film med forskellige funktioner, og deres spektrale ydeevnekrav bliver højere og højere, og de bliver mere og mere udbredt. Der er flere og sværere film som 50G og GFF. Kravene til belægningsmaskiner bliver også højere og højere.
På nuværende tidspunkt kan ensartetheden af almindelige belægningsmaskiner på markedet kun nå op på maksimalt 1 procent, hvilket har ringe effekt ved belægning af almindelige optiske film. Men når belægningen af vanskelige film såsom 50G og GFF, er udbyttet og output af belægningen vanskeligt at opnå. Kræve. På nuværende tidspunkt er de fleste tiltag i branchen at bruge en afskærmningsplade for at optimere ensartetheden. Afskærmningspladen har dog brug for mange tests for at bestemme størrelsen, og afskærmningspladerne i forskellige filmsystemer kan ikke bruges universelt, hvilket i høj grad begrænser brugen af afskærmningspladen. I dette papir er ensartetheden forbedret ved direkte at forbedre belægningsmaskinens armatur, og der er ingen relevant rapport indtil videre.
Vakuumbelægning elektrisk varmerørbelægning med film med lavt brydningsindeks
Belægning af et filmlag med lavt brydningsindeks, overfør det metalfilmbelagte produkt til et belægningskammer udstyret med et målmateriale, der kan danne et filmlag med lavt brydningsindeks, opvarm det til en procestemperatur på 80-150 grader, og passer bearbejd gas ind i kammeret, indstil sputtereffekt 1-15KW, belægningstid 1-300S, for at opnå en film med lavt brydningsindeks med en tykkelse på 1-100nm, lavbrydnings- indeksfilm er siliciumoxid, siliciumnitrid og andre film;
Typer, materialer og gasser af vakuum galvanisering af elektriske varmerørmål
Vælg måltype, materiale og gas (nitrogen, oxygen, acetylen, methan, argon osv.), bestem mål- og gastypen, og juster derefter gasforholdet, dosering, sputtereffekt, sputtertid, substratbehandlingstemperatur, sputtering Ifølge procesparametrene såsom sputtertemperatur og sputtertid fremstilles et farvefilmlag, som er meget udbredt i den dekorative belægningsindustri.
www.superbheater.com
