Belægningsvakuumgrad og reaktiv gaspartialtryk af vakuumbelægningsmaskine.
Læg en besked
Belægningsvakuumgrad og reaktiv gaspartialtryk af vakuumbelægningsmaskine.
Påvirkningen af vakuumgraden af ionplettering på filmens struktur og ydeevne svarer til den af vakuumfordampning, men partialtrykket af den reaktive gas har en direkte indvirkning på sammensætningen, strukturen og ydeevnen af den sammensatte film fremstillet af reaktiv ion plettering. Figur 5 er hcd Forholdet mellem hårdheden af den ionpletterede tinfilm og partialtrykket af nitrogen, så partialtrykket af den reaktive gas bør vælges i henhold til ionpletteringsmetoden, sammensætningen, egenskaberne, anvendelseskravene og udstyr af det sammensatte filmlag
Fordampningskildekraft fra vakuumbelægningsmaskine
Fordampningskildens kraft har en direkte indflydelse på fordampningshastigheden, hvilket igen påvirker aflejringshastigheden og påvirker filmens struktur og egenskaber. Fordampningskildens kraft vil også påvirke sammensætningen af filmen, når den sammensatte film er reaktivt aflejret.
For at opnå filmlaget med den krævede ydeevne bør der udføres en omfattende analyse, forskellige faktorer bør tages i betragtning, belægningsmetoden bør vælges, og de rimelige belægningsprocesparametre bør bestemmes.
Vakuumcoaterens substrattemperatur.
Temperaturen af det ioncoatede substrat påvirker direkte filmens organisation, struktur og ydeevne. Generelt er temperaturstigningen befordrende for at forbedre adhæsionen mellem filmen og substratet og er befordrende for at forbedre organiseringen og ydeevnen af filmen. Men hvis temperaturen er for høj, vil aflejringshastigheden blive reduceret, og nogle gange vil kornene i filmen være grove, og ydeevnen vil blive forringet. I figur 6 er mikrohårdheden af hcd-ion-krombelægningsfilmen påvirket af substratets temperatur. Derudover er valget af substrattemperatur også begrænset af substratmaterialets egenskaber, såsom hærdningstemperaturen af stål mv.
www.superbheater.com
